特許
J-GLOBAL ID：200903041839872163
光学マスクブランクと光学マスクおよびそれらの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-305595
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159971
出願日： 1993年12月06日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 解像度、寸法精度に優れた光学マスク、光学マスクブランクおよびそれらの製造方法を提供する。【構成】 透明基板22上にエッチング停止層23、位相シフト層24、および遮光層26がこの順に積層され、エッチング停止層23を介して入射光を透過するための光透過部28と、エッチング停止層23、および位相シフト層24を介して入射光を透過しつつ位相を変えるための位相シフト部29とが形成された位相シフトマスク20において、位相シフト層24の膜厚および屈折率を調整することにより、光透過部28および位相シフト部29を露光した際のそれぞれの投影光の光強度が同等とされている。
請求項（抜粋）：
透明基板上に、エッチング停止層、位相シフト層、および遮光層をこの順に形成した光学マスクブランクにおいて、該位相シフト層の材料がSiO2 、SiOのいずれか、あるいはこれらの混合組成物からなり、露光波長(λ)において、位相シフト層の膜厚(d)および位相シフト層材料の屈折率(n)が、下記の(A)式および(B)式を同時に満足することを特徴とする光学マスクブランク。d=mλ/(2n) ・・・(A)d=λ/{2(n-1)} ・・・(B)[mは正整数]
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
