特許

J-GLOBAL ID：200903041850259856

培養液膜形成方式による光合成培養装置

発明者： 松本 正文 ,  福壽 芳治
出願人/特許権者： 財団法人地球環境産業技術研究機構 ,  三井造船株式会社
代理人 (1件)： 川北 武長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-183776
公開番号（公開出願番号）：特開平8-038159
出願日： 1994年08月04日
公開日（公表日）： 1996年02月13日
要約：

【要約】【目的】 気液接触効率が高く、必要以上の物理的衝撃を与えることがなく、菌体の培養到達濃度を高めることができる培養液膜形成方式による光合成培養装置を提供する。【構成】 透明なドーム型の上壁面1を有する中空容器2と、この中空容器2の下部を形成する培養槽3と、この培養槽3に設けられた循環式恒温槽4と、培養槽3の中心部に設けられ、培養液17を上方に向かって噴出する気液混合エジェクター6と、気液混合エジェクター6に光合成反応用ガスライン10を介して連結されたCO2 ボンベ11と、ドーム型上壁面の上部空間部に設けられたハロゲンライプ8を有する

請求項（抜粋）：

透明なドーム型の上壁面を有する中空容器と、該中空容器の下部を形成する培養槽と、該培養槽に設けられた培養液の温度制御手段と、前記培養槽の中心部に設けられ、前記ドーム型の上壁面に向かって培養液を噴出する気液混合エジェクターと、該気液混合エジェクターに連結された炭素含有ガスの供給源と、前記ドーム型上壁面の上部または下部空間部に設けられた光源を有することを特徴とする培養液膜形成方式による光合成培養装置。

IPC (6件)：

C12M 1/00 ZAB ,  C12M 1/00 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/62 ,  C01B 31/20 ZAB ,  C12N 1/00

FI (2件)：

B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 135 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-370087
  
• 特開昭52-108082
  
• 特開平4-370087
  
• 特開昭52-108082