特許
J-GLOBAL ID：200903041854114453
成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-054193
公開番号（公開出願番号）：特開平10-237644
出願日： 1997年02月20日
公開日（公表日）： 1998年09月08日
要約：
【要約】【課題】 蒸着室内で回転する治具の冷却を可能にした成膜装置を得る。【解決手段】蒸着室と蒸着室の下部に設置される蒸着源と、蒸着源上部に設置され膜が形成される基板を整列固定し、成膜時に反転又は自転する基板ホルダーと、該基板ホルダーをガイド固定し該基板ホルダーを蒸着源の上部で公転させる蒸着治具と、基板に形成される膜厚を監視する膜厚モニターと、該膜厚モニターの情報により蒸着源をコントロールする制御装置より構成され、膜厚モニターは基板ホルダーと同じ動きができる位置で、かつ基板の近傍に設置されている成膜装置において、膜厚モニターを収納する基板ホルダーには温度を制御する為に蒸着室外から冷却用流体を循環させるための配管がなされ、蒸着治具の公転回転部と基板ホルダーの反転又は自転部の配管接続部には、夫々導入部と排出部を有する回転部と固定部で構成される配管継手を設置する。
請求項（抜粋）：
蒸着室と蒸着室の下部に設置される蒸着源と、蒸着源上部に設置され膜が形成される基板を整列固定し、成膜時に反転又は自転する基板ホルダーと、該基板ホルダーをガイド固定し該基板ホルダーを蒸着源の上部で公転させる蒸着治具と、基板に形成される膜厚を監視する膜厚モニターと、該膜厚モニターの情報により蒸着源をコントロールする制御装置より構成され、膜厚モニターは基板ホルダーと同じ動きができる位置で、かつ基板の近傍に設置されている成膜装置において、膜厚モニターを収納する基板ホルダーには温度を制御する為に蒸着室外から冷却用流体を循環させるための配管がなされ、蒸着治具の公転回転部と基板ホルダーの反転又は自転部の配管接続部には、夫々導入部と排出部を有する回転部と固定部で構成される配管継手を設置したことを特徴とする成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/50 H
, C23C 14/54 D
