特許

J-GLOBAL ID：200903041865521484

プラズマ処理装置内のウェハ温度制御方法

発明者： 藤田 太一
出願人/特許権者： 日本鋼管株式会社
代理人 (1件)： 花輪 義男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-259648
公開番号（公開出願番号）：特開2000-091239
出願日： 1998年09月14日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：

【要約】【課題】1ロットのウェハの内最初の数枚の安定性を少なくとも確保することを課題とする。【解決手段】ウェハ22を処理する真空処理室21と、この真空処理室21に互いに対向して設けられた上部電極23及び下部電極24と、前記真空処理室21とゲートバルブ38を介して隣接して設けられたロードロックチャンバー39と、前記ウェハ22をロードロックチャンバー39から真空処理室21へ搬送する搬送アーム40と、前記真空処理室21内にプラズマを発生させるプラズマ電源36とを具備するプラズマ処理装置内のウェハの温度を制御する方法において、ウェハ22を真空処理室21で処理中の平衡温度になるプラズマ熱と同等の熱エネルギーを、少なくともウェハ22を真空処理室21に投入する前に真空処理室21に与えることを特徴とするプラズマ処理装置内のウェハ温度制御方法。

請求項（抜粋）：

ウェハを処理する真空処理室と、前記真空処理室とゲートバルブを介して隣接して設けられたロードロックチャンバーと、前記ウェハをロードロックチャンバーから真空処理室へ搬送するウェハ搬送手段と、前記真空処理室内にプラズマを発生させるプラズマ発生手段とを具備するプラズマ処理装置内のウェハの温度を制御する方法において、ウェハを真空処理室で処理中の平衡温度になるプラズマ熱と同等の熱エネルギーを、少なくともウェハを真空処理室に投入する前に真空処理室に与えることを特徴とするプラズマ処理装置内のウェハ温度制御方法。

IPC (5件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/46 ,  C23C 16/52 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065

FI (5件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/46 ,  C23C 16/52 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/302 E

Fターム (33件)：

4K030CA12 ,  4K030FA03 ,  4K030GA12 ,  4K030JA10 ,  4K030KA08 ,  4K030KA23 ,  4K030KA30 ,  4K030KA41 ,  4K057DA16 ,  4K057DA20 ,  4K057DD01 ,  4K057DE08 ,  4K057DG02 ,  4K057DM02 ,  4K057DM06 ,  4K057DM40 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB18 ,  5F004BD04 ,  5F004CA04 ,  5F004CA09 ,  5F004CB12 ,  5F004DA01 ,  5F045AA08 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EF05 ,  5F045EH05 ,  5F045EH13 ,  5F045EK07 ,  5F045EK28 ,  5F045GB17