特許

J-GLOBAL ID：200903041871480552

両性両親媒性高分子電解質の製造方法

発明者： 丸山 貴信 ,  土岐 育子 ,  波多 賢治
出願人/特許権者： ライオン株式会社
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-369189
公開番号（公開出願番号）：特開平11-193303
出願日： 1997年12月27日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：

【要約】【課題】 混合均一重合溶媒を用いる両性両親媒性高分子電解質の製造方法を提供する。【解決手段】 (メタ)アクリルアミドアルキルスルホン酸及び/又はその塩と、3級あるいは4級アンモニウム塩モノマーと、疎水性モノマーとを共重合させて両性両親媒性高分子電解質を製造する方法において、重合溶媒として、低級アルコールと塩水溶液との混合物又は低級ケトンと塩水溶液との混合物を用いることを特徴とする両性両親媒性高分子電解質の製造方法。

請求項（抜粋）：

(メタ)アクリルアミドアルキルスルホン酸及び/又はその塩と、下記の一般式(1)に示す3級あるいは4級アンモニウム塩モノマーと、下記の一般式(2)に示す疎水性モノマーとを共重合させて両性両親媒性高分子電解質を製造する方法において、重合溶媒として、低級アルコールと塩水溶液との混合物又は低級ケトンと塩水溶液との混合物を用いることを特徴とする両性両親媒性高分子電解質の製造方法。【化1】(式中、R1はH又は炭素数1から2のアルキル基を示し、Aは酸素原子又はNHを示し、Xは炭素数1から8までの直鎖状もしくは分岐鎖状アルキレン基又はアルケニレン基を示し、水酸基を1つ以上を含んでいてもよく、R2はH又は炭素数1から12のアルキル基を示し、R3、R4は炭素数1から12までのアルキル基を示し、R2、R3、R4が同時にアルキル基の場合、そのアルキル基は同じでも異なっていてもよい)【化2】(式中、RはH又は炭素数1から2のアルキル基を示し、Aは酸素原子又はNHを示し、Yは炭素数1以上30以下の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、炭素数3から6のシクロアルキル基又はアリール基を示す)

IPC (7件)：

C08F 2/04 ,  B01F 17/52 ,  C08F220/18 ,  C08F220/34 ,  C08F220/56 ,  C08F228/02 ,  C07C233/38

FI (7件)：

C08F 2/04 ,  B01F 17/52 ,  C08F220/18 ,  C08F220/34 ,  C08F220/56 ,  C08F228/02 ,  C07C233/38