特許

J-GLOBAL ID：200903041872320133

フォトマスクブランクの製造方法

発明者： 金子 英雄 ,  稲月 判臣 ,  塚本 哲史 ,  岡崎 智
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-154974
公開番号（公開出願番号）：特開2003-344989
出願日： 2002年05月29日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：

【要約】【解決手段】 露光光に対して透明な基板の上にスパッタリングにより遮光膜又は位相シフト膜を成膜してなるフォトマスクブランクの製造方法であって、ターゲットと基板との間に遮蔽板を設け、低角度で入射するスパッタリング粒子の基板への照射を規制して遮光膜又は位相シフト膜を成膜することを特徴とするフォトマスクブランクの製造方法。【効果】 本発明のフォトマスクブランクの製造方法によれば、フォトマスクブランクの側面に付着した膜の膜厚を薄くすることができるため、搬送等による膜の剥離が少ない高品質なフォトマスクブランクを得ることができ、これによりフォトマスク作製時のパターン欠陥を低減することができる。

請求項（抜粋）：

露光光に対して透明な基板の上にスパッタリングにより遮光膜又は位相シフト膜を成膜してなるフォトマスクブランクの製造方法であって、ターゲットと基板との間に遮蔽板を設け、低角度で入射するスパッタリング粒子の基板への照射を規制して遮光膜又は位相シフト膜を成膜することを特徴とするフォトマスクブランクの製造方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 L ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (6件)：

2H095BB03 ,  2H095BB25 ,  2H095BB35 ,  2H095BC04 ,  2H095BC08 ,  2H095BC24