特許

J-GLOBAL ID：200903041875889617

マスク、位置制御精度計測方法、及び露光方法、並びにデバイス製造方法

発明者： 林 恒仁 ,  李 在必
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-096031
公開番号（公開出願番号）：特開2002-296755
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：

【要約】【課題】 マスクステージ又は基板ステージの位置制御精度の計測に好適に用いることができるマスクを提供する。【解決手段】 重ね合わせて転写した際に重なり部の形状が重ね位置に依存せず一定形状となる第1パターン(TP1)と第2パターン(TP2)とを含む第1の組のパターンと、前記第1パターンと第2パターンとの位置関係と同一の相互位置関係を有し、重ね合わせて転写した際に重なり部の形状が相対的な重ね位置に依存して変化する第3パターン(TP3)と第4パターン(TP4)とを含む第2の組のパターンとが、相互に重ならないように、そのパターン面(PA)に形成されたマスク基板(42)を備える。

請求項（抜粋）：

重ね合わせて転写した際に重なり部の形状が重ね位置に依存せず一定形状となる第1パターンと第2パターンとを含む第1の組のパターンと、前記第1パターンと第2パターンとの位置関係と同一の相互位置関係を有し、重ね合わせて転写した際に重なり部の形状が相対的な重ね位置に依存して変化する第3パターンと第4パターンとを含む第2の組のパターンとが、相互に重ならないように、そのパターン面に形成されたマスク基板を備えるマスク。

IPC (6件)：

G03F 1/08 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/02 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 B ,  G03F 1/08 D ,  G01B 11/00 Z ,  G01B 11/02 H ,  G03F 7/22 H ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (11件)：

2F065AA21 ,  2F065CC20 ,  2F065JJ02 ,  2F065PP03 ,  2F065PP12 ,  2F065TT02 ,  2H095BA01 ,  2H095BA02 ,  2H095BA05 ,  2H095BB02 ,  2H095BB31