特許

J-GLOBAL ID：200903041896596083

感光性被膜の感度測定法及び耐蝕性被膜の形成法

発明者： 河村 栄一
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 柏谷 昭司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-257385
公開番号（公開出願番号）：特開平5-102031
出願日： 1991年10月04日
公開日（公表日）： 1993年04月23日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、感光性被膜の塗布、露光、現像工程、特に感光性被膜の感度測定法及び耐蝕性被膜の形成法に関し、迅速で正確な感度測定法を提供し、その結果、半導体装置を製造する場合のフォトリソグラフィー工程を改善し、省力化することを目的とする。【構成】 基板1の上に形成された感光性被膜の複数の領域21 〜28 を異なる露光量P1 〜P8 で露光して現像し、現像された感光性被膜の残存膜厚31 〜38 の状態をその位置と輝度信号からなる画像データに変換し、この画像データと露光量データを情報処理することによって、この感光性被膜が完全に溶解するに足る露光量である感度Ethを自動的に測定するように構成した。また、この感度によって回転塗布装置の回転数を自動的に制御し、画像信号を処理することによって現像条件の異常を検出するように構成した。

請求項（抜粋）：

基板の上に形成された感光性被膜の複数の領域を異なる露光量で露光し、露光されたこの感光性被膜を現像し、現像された感光性被膜の残存膜厚の状態を位置と輝度信号からなる画像データに変換し、この画像データと露光量データを情報処理することを特徴とする感光性被膜の感度測定法。