特許

J-GLOBAL ID：200903041913076390

周辺露光装置及び露光方法

発明者： 加藤 正紀
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-118492
公開番号（公開出願番号）：特開2000-311843
出願日： 1999年04月26日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：

【要約】【目的】大型の基板に対しても比較的容易でかつ安価で、更に耐久性に優れ、かつコストをかけずにスループットを向上させることが可能な周辺露光装置等を提供する。【構成】感光性基板上に所定の転写パターンが形成されるパターン転写領域以外の前記感光性基板上の非転写領域を露光する周辺露光装置において、前記非転写領域の少なくとも1部に所定の照明領域を形成する照明光学系と、前記感光性基板を保持する基板ステージとを備え、前記照明光学系は、前記感光性基板に対して斜め方向から前記露光用の光束を照明するために、前記照明光学系の前記感光性基板側の光軸が前記感光性基板の法線方向に対して所定の角度をなすように設定される構成とした。

請求項（抜粋）：

感光性基板上に所定の転写パターンが形成されるパターン転写領域以外の前記感光性基板上の非転写領域を露光する周辺露光装置において、露光用の光束を前記感光性基板上の非転写領域へ導いて前記非転写領域の少なくとも1部に所定の照明領域を形成する照明光学系と、前記感光性基板を保持する基板ステージとを有し、前記照明光学系は、前記感光性基板に対して斜め方向から前記露光用の光束を照明するために、前記照明光学系の前記感光性基板側の光軸が前記感光性基板の法線方向に対して所定の角度をなすように設定されていることを特徴とする周辺露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G02B 6/00 331 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 577 ,  G02B 6/00 331 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 529

Fターム (9件)：

2H038AA54 ,  2H038BA45 ,  5F046AA28 ,  5F046BA07 ,  5F046CA01 ,  5F046CB04 ,  5F046CC01 ,  5F046CC05 ,  5F046CC06