蓄熱型排ガス処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：澤野勝文 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-144818
公開番号（公開出願番号）：特開2000-334267
出願日： 1999年05月25日
公開日（公表日）： 2000年12月05日
要約：

【要約】【課題】大量に導入される低温排ガスに含まれるVOC及びNOxを、確実に熱効率よく浄化処理すると共に、そのランニングコストを低減する。【解決手段】排ガス処理室(3) に、これと連通する蓄熱式熱交換器(5) の蓄熱室(4) に面してNOx吸蔵還元型触媒からなる触媒層(6) を形成した。蓄熱室(4)を、排ガス処理室(3) に導入する未処理排ガスを通過させる給気領域(4in) と、排ガス処理室(3) から排出される処理済排ガスを通過させる排気領域(4out)と、未処理排ガス及び処理済排ガスの流通を遮断して還元ガスを供給する排ガス遮断領域(4s)に区分し、これら各領域(4in, 4out,4s) を順次切り換えながら、排ガスを連続的に導入して排ガス処理室(3) の触媒層(6) でVOC及びNOxを浄化処理するようにした。

請求項（抜粋）：

排ガスに含まれる揮発性有機化合物を燃焼させる触媒層(6)を形成した排ガス処理室(3)が、蓄熱室(4)を備えた蓄熱式熱交換器(5)に連通して形成された蓄熱型排ガス処理装置において、前記触媒層(6)が、蓄熱式熱交換器(5)の蓄熱室(4)に面して形成されると共に、酸素過剰雰囲気でNOxを吸蔵し、還元種過剰雰囲気で前記NOxを窒素に還元する機能を有するNOx吸蔵還元型触媒で形成され、前記熱交換器(5)に、前記蓄熱室(4)を、前記排ガス処理室(3)から排出された高温の処理済排ガスが通過する排気領域(4out )と、前記排ガス処理室(3)に導入される低温の未処理排ガスが通過する給気領域(4in)と、未処理排ガス及び処理済排ガスの流通を遮断する排ガス遮断領域(4s)の少なくとも三領域に区分して、これら各領域を順次切り換える給排気分配装置(8,31)が配されると共に、前記排ガス遮断領域(4s)から還元ガスを供給して当該領域に面した触媒層(6)を還元種過剰雰囲気に曝す還元ガス供給装置(9,35)を備えたことを特徴とする蓄熱型排ガス処理装置。

IPC (11件)：

B01D 53/87 , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/44 , B01D 53/74 , B01D 53/56 , B01D 53/81 , B01D 53/86 , B01D 53/94 , F23G 7/06 ZAB , F23G 7/06 102 , F23G 7/06 103

FI (9件)：

B01D 53/36 B , F23G 7/06 ZAB , F23G 7/06 102 X , F23G 7/06 103 , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/34 117 E , B01D 53/34 129 A , B01D 53/36 G , B01D 53/36 102 H

Fターム (44件)：

3K078AA05 , 3K078BA06 , 3K078BA17 , 3K078BA24 , 3K078DA14 , 3K078DA16 , 3K078DA17 , 3K078DA24 , 3K078DA32 , 3K078EA02 , 3K078EA09 , 4D002AA12 , 4D002AA33 , 4D002AB03 , 4D002AC10 , 4D002BA04 , 4D002BA06 , 4D002CA20 , 4D002DA01 , 4D002DA04 , 4D002DA07 , 4D002DA25 , 4D002DA46 , 4D002DA54 , 4D002DA56 , 4D002GA01 , 4D002GA02 , 4D002GB20 , 4D002HA08 , 4D002HA10 , 4D048AA06 , 4D048AA18 , 4D048AB02 , 4D048BA03X , 4D048BA14X , 4D048BA15X , 4D048BA30Y , 4D048BA33X , 4D048BA41X , 4D048BB12 , 4D048CC25 , 4D048CC32 , 4D048CC54 , 4D048EA10

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