特許
J-GLOBAL ID：200903041934409691
フォトマスクへのペリクル貼着方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-197069
公開番号（公開出願番号）：特開平10-020479
出願日： 1996年07月08日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：
【要約】【解決手段】 一端面に接着剤層を介してペリクル膜が張設されたペリクル枠の他端面をフォトマスクに貼着する方法において、フォトマスクのペリクル枠を貼着すべき箇所に予め粘着剤層を形成した後、この粘着剤層に上記ペリクル枠の粘着剤層無形成の他端面を圧着させることを特徴とするフォトマスクへのペリクル貼着方法。【効果】 本発明の方法によれば、ライナー無使用のペリクルを用いるので、ライナーからの異物の発生がなく、このためペリクル膜の異物による性能の低下が防止できる上、ライナーの原料費やライナーの洗浄、打ち抜き、検査等の工程、費用を省くことができ、ペリクルの清浄性を維持する観点から非常に有利である上、工業的にも有利である。
請求項（抜粋）：
一端面に接着剤層を介してペリクル膜が張設されたペリクル枠の他端面をフォトマスクに貼着する方法において、フォトマスクのペリクル枠を貼着すべき箇所に予め粘着剤層を形成した後、この粘着剤層に上記ペリクル枠の粘着剤層無形成の他端面を圧着させることを特徴とするフォトマスクへのペリクル貼着方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/14 J
, H01L 21/30 502 P
