特許
J-GLOBAL ID：200903041950554405
欠陥検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-226509
公開番号（公開出願番号）：特開平8-137093
出願日： 1995年09月04日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：
【要約】【課題】 特殊な光学系を用いることなく、高速にかつ高い信頼性をもって、マスク上の異物検出を行うことのできる欠陥検査装置を提供すること。【解決手段】 露光に供されるパターンが形成されたマスク上の欠陥を検査する欠陥検査装置において、マスク1の透過像及び反射像をそれぞれ受光して第1及び第2の画像信号を得る光電変換素子14a,14bと、第1及び第2の画像信号をそれぞれ記憶する画像メモリ16a,16bと、予め異物の無いマスクに対する第1及び第2の画像信号の2次元ヒストグラムを作成し、この2次元ヒストグラムを2値化して頻度1以上を表わすビットパターンを登録するメモリ19と、被検査マスクに対する第1及び第2の画像信号の対応する画素を2次元座標で表わしたデータが全ての画素でビットパターンに登録されているか否かをもって異物の有無を判定するデータ変換部18とを具備してなる。
請求項（抜粋）：
露光に供されるパターンが形成されたマスク上の欠陥を検査する欠陥検査装置において、前記マスクに透過照明を施し該マスクの透過像を光電変換素子により受光して第1の画像信号を得る手段と、前記マスクに反射照明を施し該マスクの反射像を光電変換素子により受光して第2の画像信号を得る手段と、第1及び第2の画像信号をそれぞれ第1及び第2の画像メモリに記憶する手段と、予め異物の無いマスクに対する第1及び第2の画像信号の対応する画素の2次元ヒストグラムを作成し、この2次元ヒストグラムを2値化して頻度0を表わすビットパターンを登録しておく手段と、被検査マスクに対する第1及び第2の画像信号の対応する画素を2次元座標で表わしたデータが、全ての画素で、前記ビットパターンに登録されているか否かをもって異物の有無を判定する手段とを具備してなることを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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