特許

J-GLOBAL ID：200903041962725388

微細パターンの形成方法

発明者： 広兼 順司 ,  森 豪 ,  三枝 理伸
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-040238
公開番号（公開出願番号）：特開2002-245685
出願日： 2001年02月16日
公開日（公表日）： 2002年08月30日
要約：

【要約】【課題】 この発明は、微細パターンの形成方法に関し、光ビームスポット径よりも小さな幅を持ち現像液に対して不溶な変質した樹脂層を基板上に形成することにより、微細パターンを形成することを課題とする。【解決手段】 この発明は、基板の表面上に金属膜を形成し、前記金属膜の上に樹脂層を形成し、前記樹脂層の上方から所定の位置に光ビームを集光照射することにより所定の温度以上に上昇させた前記樹脂層の領域に現像液に対して不溶な変質層を形成し、前記変質層以外の樹脂層の部分を選択的に除去し、前記変質層を残存させるようにしたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基板の表面上に金属膜を形成し、前記金属膜の上に樹脂層を形成し、前記樹脂層の上方から所定の位置に光ビームを集光照射することにより所定の温度以上に上昇させた前記樹脂層の領域に現像液に対して不溶な変質層を形成し、前記変質層以外の樹脂層の部分を選択的に除去し、前記変質層を残存させるようにしたことを特徴とする微細パターンの形成方法。

IPC (3件)：

G11B 7/26 501 ,  C23F 1/00 102 ,  C23F 4/00

FI (3件)：

G11B 7/26 501 ,  C23F 1/00 102 ,  C23F 4/00 A

Fターム (25件)：

4K057DA11 ,  4K057DB03 ,  4K057DB08 ,  4K057DB15 ,  4K057DB17 ,  4K057DC10 ,  4K057DD03 ,  4K057DD08 ,  4K057DE08 ,  4K057DN03 ,  4K057WA11 ,  4K057WB03 ,  4K057WB15 ,  4K057WB17 ,  4K057WC10 ,  4K057WE02 ,  4K057WN04 ,  5D121AA02 ,  5D121BA01 ,  5D121BA05 ,  5D121BB05 ,  5D121BB08 ,  5D121BB33 ,  5D121BB34 ,  5D121GG04