特許
J-GLOBAL ID:200903041972356100

テトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-364192
公開番号(公開出願番号):特開2002-167390
出願日: 2000年11月30日
公開日(公表日): 2002年06月11日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 合成における有機溶媒への溶解性がよく、イオン性不純物の残存がないテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法を提供する。【解決手段】 ホウ酸、一般式2の無水カルボン酸及び一般式3のアミンを反応させ一般式1のテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法。(R1はアルキル基、アリール基又はアラルキル基、R2〜R4はアルキル基、アリール基又はR2〜R4の3つのうち2つ以上が環を形成する置換基)(R1はアルキル基、アリール基又はアラルキル基)(R2〜R4はアルキル基、アリール基又はR2〜R4の3つのうち2つ以上が環を形成する基)
請求項(抜粋):
一般式(1)で表されるテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)が、ホウ酸、一般式(2)で表される無水カルボン酸、一般式(3)で表されるアミンとを反応させて得られることを特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法。【化1】(R1はアルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基、R2〜R4は、アルキル基、アリール基又はR2〜R4の3つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形成する置換基)【化2】( R1はアルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基)【化3】( R2〜R4は、アルキル基、アリール基又はR2〜R4の3つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形成する基)
IPC (2件):
C07F 5/02 ,  C08G 59/68
FI (3件):
C07F 5/02 C ,  C07F 5/02 Z ,  C08G 59/68
Fターム (14件):
4H048AA02 ,  4H048AC90 ,  4H048BE90 ,  4H048VA20 ,  4H048VA30 ,  4H048VA75 ,  4H048VB10 ,  4J036AA01 ,  4J036GA01 ,  4J036GA06 ,  4J036JA07 ,  4J036JA08 ,  4J036JA09 ,  4J036JA10
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 樹脂組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-340126   出願人:住友ベークライト株式会社
  • リン系潜伏性触媒の合成法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-012488   出願人:住友ベークライト株式会社
  • 特開平4-243882

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