特許
J-GLOBAL ID：200903041983769644

ランダムパターン生成装置とその方法、距離画像生成装置とその方法、およびプログラム提供媒体

発明者：
呉 偉国

呉 偉国 について

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後 輝行

後 輝行 について

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綾塚 祐二

綾塚 祐二 について

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小柳津 秀紀

小柳津 秀紀 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 山田 英治 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-331106
公開番号（公開出願番号）：特開2001-147110
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：
【要約】【課題】 ステレオ画像法において距離計測用の投光パターン画像の適性を判定し高精度な距離画像を生成可能な構成を提供する。【解決手段】 三次元形状計測用の投光パターンを、パターン変化率、特徴量、分散値、パターンマッチング等により評価してパターンを決定することで、画像間対応付け、距離画像生成処理におけるミスマッチングを解消し、高精度な距離画像を生成可能とした。また、生成した投光用パターンを投影した測定対象の撮影画像に基づいて変化率、特徴量、あるいはパターンマッチングを行なって撮影画像を評価し、適性でないと判定された場合、新たなパターンを生成して投光するフィードバック構成により、距離画像の生成処理においてミスマッチングの発生を抑制し、高精度な距離画像の生成を可能とした。
請求項（抜粋）：
三次元形状の計測において測定対象に投光する投光パターンを生成するランダムパターン生成装置において、乱数を用いた異なる複数の非周期的投光パターンを生成可能な投光パターン生成手段と、前記投光パターン生成手段において生成された投光パターンの評価を実行する投光パターン評価手段とを有し、前記投光パターン評価手段は、前記投光パターン生成手段の生成した投光パターンのパターンとしての適性度を示すパターン適性度指標値を該生成投光パターンに基づいて算出し、算出したパターン適性度指標値を予め定めた閾値と比較することによって、生成投光パターンが三次元形状計測用の投光パターンとして適性を持つか否かを判定する構成を有することを特徴とするランダムパターン生成装置。
IPC (4件)：
G01B 11/24 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/25 ,  G06T 7/00
FI (4件)：
G01B 11/00 H ,  G01B 11/24 K ,  G01B 11/24 E ,  G06F 15/62 415
Fターム (31件)：
2F065AA06 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065CC16 ,  2F065FF05 ,  2F065FF09 ,  2F065GG08 ,  2F065HH07 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL30 ,  2F065NN12 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ07 ,  2F065QQ08 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ36 ,  2F065QQ38 ,  2F065QQ41 ,  2F065QQ42 ,  5B057BA29 ,  5B057DA07 ,  5B057DB03 ,  5B057DC02 ,  5B057DC32
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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