液状シリコーンゴムベースの連続的製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保田芳譽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-166610
公開番号（公開出願番号）：特開平10-152563
出願日： 1997年06月09日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】配合する導電性充填剤が微細なものであっても、小塊状物をつくることなくに均一に分散した液状シリコーンゴムベースをきわめて短時間に製造する。【解決手段】 (A)25°Cにおける粘度が100〜500,000センチポイズであり、1分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合アルケニル基を有するオルガノポリシロキサン100重量部、(B)非導電性無機質充填剤0〜200重量部および(C)比表面積0.5m2/g以上の導電性充填剤0.1〜700重量部[但し、(B)成分と(C)成分の合計量は5〜700重量部である]を、ケーシング内部に回転円盤[但し、(回転円盤の直径)の(円筒状ケーシングの内径)に対する比率が0.80〜0.95である]を設けた連続混練装置内に連続的に供給し、該回転円盤を回転させることにより前記2成分または3成分を混練し、混練物を排出する。

請求項（抜粋）：

(A)25°Cにおける粘度が100〜500,000センチポイズであり、1分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合アルケニル基を有するオルガノポリシロキサン100重量部、(B)非導電性無機質充填剤0〜200重量部および(C)比表面積0.5m2/g以上の導電性充填剤0.1〜700重量部[但し、(B)成分と(C)成分の合計量は5〜700重量部である]を、ケーシング上部に原料供給口を設け、ケーシング下部に混合物の排出口を設け、ケーシング内部に回転円盤[但し、(回転円盤の直径)の(円筒状ケーシングの内径)に対する比率が0.80〜0.95である]を設けた連続混練装置内に連続的に供給し、該回転円盤を回転させることにより前記2成分または3成分を混練し、混練物を該排出口から排出することを特徴とする、液状シリコーンゴムベースの連続的製造方法。

IPC (6件)：

C08J 3/20 CFH , C08K 3/00 , C08L 83/07 , C08K 3:04 , C08K 3:36 , C08K 3:08

FI (3件)：

C08J 3/20 CFH B , C08K 3/00 , C08L 83/07

引用特許：

審査官引用 (1件)

液体と粉体の連続混練装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-139056 出願人：東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社

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