特許

J-GLOBAL ID：200903042014406859

有機結晶表面欠陥修復方法

発明者： 南條 弘 ,  小松 京嗣
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
代理人 (1件)： 阿形 明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-351172
公開番号（公開出願番号）：特開2003-145500
出願日： 2001年11月16日
公開日（公表日）： 2003年05月20日
要約：

【要約】【課題】 非線形材料として用いられる有機結晶について、レーザー光などの入射率及び変換効率を低下させる表面の傷やへこみのような凹状欠陥部を局部的に処理して、平滑な表面をもつ有機結晶を与える方法を提供する。【解決手段】 表面に凹状欠陥部を有する有機結晶について、凹状欠陥部とその周辺部を、先端曲率半径1〜100nmの探針に1〜100nNの荷重を印加しながら、二次元的に走査することにより、周辺部を切削し、その切削部分を凹状欠陥部に移動させ、周辺部と同じレベルの表面を形成させて有機結晶の表面欠陥を修復する。

請求項（抜粋）：

表面に凹状欠陥部を有する有機結晶について、凹状欠陥部とその周辺部を、先端曲率半径1〜100nmの探針に1〜100nNの荷重を印加しながら、二次元的に走査することにより、周辺部を切削し、その切削部分を凹状欠陥部に移動させ、周辺部と同じレベルの表面を形成させることを特徴とする有機結晶表面欠陥修復方法。

IPC (5件)：

B82B 3/00 ,  G02B 1/02 ,  G02B 1/04 ,  G02B 1/10 ,  G02F 1/361

FI (5件)：

B82B 3/00 ,  G02B 1/02 ,  G02B 1/04 ,  G02F 1/361 ,  G02B 1/10 Z

Fターム (9件)：

2K002CA05 ,  2K002EA01 ,  2K002FA30 ,  2K002GA10 ,  2K009BB11 ,  2K009CC21 ,  2K009DD15 ,  2K009EE00 ,  2K009FF01