特許
J-GLOBAL ID：200903042036017210
熱処理装置
出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社
大日本スクリーン製造株式会社 について
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-094545
公開番号（公開出願番号）：特開2000-294473
出願日： 1999年04月01日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：
【要約】【課題】 加熱源が行う処理内容に応じた最適な制御が行えるような熱処理装置を提供する。【解決手段】 基板Wは加熱源たるホットプレート20に載置されて加熱処理に供される。ホットプレート20の温度は温度センサ25によって計測される。温度制御部15は温度センサ25による測温結果に基づいてホットプレート20の温度をPID制御により制御する。PID定数決定部16は温度制御部15によるPID制御のPID定数を決定する。PID定数決定部16が決定するPID定数は、ホットプレート20が基板Wの実処理を行うか或いはその設定温度の変更を行うかによって異なり、また設定温度の変更を行う場合であってもその変更する温度幅や温度帯によって異なる。
請求項（抜粋）：
基板に加熱処理を行う熱処理装置であって、基板を加熱するための加熱源と、前記加熱源の温度を測定する測温手段と、前記測温手段の測温結果に基づいて前記加熱源の温度をフィードバック制御する温度制御手段と、前記加熱源が行う処理内容に応じて前記フィードバック制御の態様を決定する制御態様決定手段と、を備えることを特徴とする熱処理装置。
Fターム (2件)：
引用特許：
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