特許

J-GLOBAL ID：200903042056305386

フォトマスクブランクス、感光性転写材料およびフォトマスクの製造方法

発明者： 高柳 丘
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-300947
公開番号（公開出願番号）：特開2003-107674
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：

【要約】【課題】 乳剤層あるいは感光性層の上に、たとえば塵埃、ゴミ等が付着せず、また感光性層に傷がつかないフォトマスクブランクス、そのための感光性転写材料を提供することにあり、さらに前記フォトマスクブランクスあるいは感光性転写材料を用いるフォトマスクの製造方法を提供すること。【解決手段】 光透過性の基材の上に、少なくとも、遮光層、感光性層および仮支持体をこの順に設けたフォトマスクブランクス、このための感光性転写材料および前記フォトマスクブランクスを用いるフォトマスクの製造方法。

請求項（抜粋）：

光透過性の基材の上に、少なくとも、遮光層、感光性層および仮支持体をこの順に設けたフォトマスクブランクス。

IPC (6件)：

G03F 1/08 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/09 501 ,  G03F 7/11 501 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027

FI (9件)：

G03F 1/08 Z ,  G03F 1/08 J ,  G03F 1/08 K ,  G03F 1/08 L ,  G03F 1/14 G ,  G03F 7/09 501 ,  G03F 7/11 501 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (38件)：

2H025AA13 ,  2H025AA18 ,  2H025AB08 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025CA00 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CC12 ,  2H025DA03 ,  2H025DA21 ,  2H025DA30 ,  2H025DA33 ,  2H025DA38 ,  2H025EA08 ,  2H025FA17 ,  2H095BB08 ,  2H095BB14 ,  2H095BB28 ,  2H095BB30 ,  2H095BC06 ,  2H095BC08 ,  2H095BC09 ,  2H095BC16 ,  2H097AA03 ,  2H097BA06 ,  2H097CA17 ,  2H097FA02 ,  2H097GB04 ,  2H097JA02 ,  2H097JA03 ,  2H097JA04 ,  2H097LA09 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  2H097LA17