特許
J-GLOBAL ID：200903042059387960
自由曲面光学系の設計方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-175320
公開番号（公開出願番号）：特開平7-036959
出願日： 1993年07月15日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】 自由曲面光学系の設計で計算量を低減し、また最適光学系を直接求める、光学面の位相回転の入射角依存性を考えた設計法を得る。【構成】 初期光路と初期光学面を定め、各光学面上に複数点を定義し、設計光学系が望む結像特性フィールド内に定義した複数設計点に対し、開口内に複数光路を定義する。上記複数の設計点と光路に対し、光路長偏差分布を計算、光学面と波面収差の関係係数群を求め、開口内の根平均自乗収差の複数設計点にわたる自乗和を、極小にする光学面修正量を計算する。
請求項（抜粋）：
初期光路および初期光学面を定める工程と、光学面形状および位置の修正量を得る工程とからなる、光またはX線用の結像光学系の設計方法であって、上記光学面形状および位置の修正量を得る工程が、(1)各光学面上に複数の点を定義し、設計する光学系に対し有効なフィールド内に複数の設計点を定義し、各設計点に対する開口内に複数の光路を定義する工程と、(2)上記複数の設計点のそれぞれに対する複数の各光路に対応して、各開口内の光路長偏差分布を計算する工程と、(3)開口内の根平均自乗収差の上記複数の各設計点にそれぞれ対応する自乗和を、極小にする光学面修正量を計算する工程と、からなる自由曲面光学系の設計方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G06F 15/60 400 K
, G06F 15/64 320 C
