特許
J-GLOBAL ID：200903042061085718
パターン転写装置、型の洗浄方法、パターン転写方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-433791
公開番号（公開出願番号）：特開2005-191444
出願日： 2003年12月26日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：
【課題】 型を常にクリーンな状態に保ち、かつ高い再現性を確保することのできるパターン転写装置、型の洗浄方法、パターン転写方法を提供することを目的とする。【解決手段】 パターン形成装置10に、型100を洗浄する洗浄装置80を備えた。この洗浄装置80の洗浄槽81は、基板移動機構30、型駆動機構50によって、保持ブロック41に吸着保持された型100を基台31に対しX、Y方向に移動させたときの可動範囲内となるような位置に設けた。 このような洗浄装置80により、適宜タイミングで、型100を基板移動機構30、型駆動機構50によって移動させて洗浄槽81に浸漬し、型100の下面を洗浄液Lで超音波洗浄するようにした。 さらに、型100の洗浄が必要か否かを判定する判定機構90を備え、この判定機構90の判定結果に基づき、型100の洗浄を自動的に行うこともできる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
型に形成されたパターンを加工対象物に転写するパターン転写装置であって、
前記加工対象物を保持する対象物保持部と、
前記型を保持する型保持部と、
前記型保持部と前記対象物保持部を少なくとも二方向に相対移動させる移動機構と、
前記移動機構による前記型保持部の移動範囲内に設けられ、前記型保持部に保持された前記型の少なくともパターン面を洗浄する洗浄部と、
を備えることを特徴とするパターン転写装置。
IPC (3件)：
H01L21/027
, B08B3/12
, B81C5/00
H01L21/30 502D
, B08B3/12 B
, B81C5/00
3B201AA46
, 3B201AB01
, 3B201BB02
, 3B201BB83
, 5F046AA28
