特許

J-GLOBAL ID：200903042068381371

マルチビーム光源装置及びこれを用いた光走査装置

発明者： 山口 勝己 ,  中島 智宏
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 柏木 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-124251
公開番号（公開出願番号）：特開平6-281871
出願日： 1993年05月26日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：

【要約】【目的】 光クロストークを防止し、走査ビームを適正に整形すること。【構成】 半導体レーザアレイ12の複数の発光源からのビームを光路分離手段20により二分割し、受光素子アレイ13の各受光素子16,17への光量に応じて半導体レーザアレイ13の出力を制御するマルチビーム光源装置10において、受光素子アレイ13への入射光路中にアパーチャ22又は反射角が変更されるミラー23を設け、或いは、半導体レーザアレイ12が保持された支持体19と受光素子アレイ13が保持された基板11とを相対的に変位自在に結合し、或いは、二分割されたビームを発光源の配設方向に対して直交する方向に長い長円状に分離・集光する集光手段21を用いる。

請求項（抜粋）：

複数の発光源を有する半導体レーザアレイと、前記発光源からのビームを二分割する光路分離手段と、この光路分離手段により分割されたビームを集束させる集光手段と、前記発光源に対応する複数の受光素子を有して前記集光手段の合焦点位置に配置された受光素子アレイとを具備し、この受光素子アレイに入力される光量により前記半導体レーザアレイの出力を制御するマルチビーム光源装置において、前記半導体レーザアレイから前記受光素子アレイまでの光路中にアパーチャを設けたことを特徴とするマルチビーム光源装置。