特許
J-GLOBAL ID：200903042068592089
レーザ・アブレーションを用いた薄膜形成法およびレーザ・アブレーション装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-286597
公開番号（公開出願番号）：特開平8-144051
出願日： 1994年11月21日
公開日（公表日）： 1996年06月04日
要約：
【要約】【目的】 薄膜の構造制御が可能なレーザ・アブレーションを用いた薄膜形成法および装置を提供する。【構成】 真空槽6内で平行移動が可能なターゲット保持装置11上に設けた取り付け高さが異なる複数のターゲット8と、焦点距離の異なるレンズを回転機構14に取り付けたパルス・レーザ発振器1から出射したレーザ光2をターゲット8表面に照射するための集光光学装置と、ターゲット8からの生成物を堆積させる基板9とから構成され、薄膜形成中にターゲット8と基板9との相対距離を変化させるために、薄膜形成中にターゲット8を平行移動させるとともに回転機構14によりレンズを交換してレーザ光を照射する。
請求項（抜粋）：
レーザ光を真空槽内に設けたターゲットの表面に照射して、前記ターゲットからの生成物を堆積させる基板と前記ターゲットとの相対距離を薄膜形成中に変化させることを特徴とするレーザ・アブレーションを用いた薄膜形成法。
IPC (2件)：
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