特許

J-GLOBAL ID：200903042075220219

薄膜磁気ヘッド

発明者： 濱川 佳弘 ,  由比藤 勇 ,  ▲高▼野 公史 ,  森脇 英稔 ,  椎木 一夫
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-191228
公開番号（公開出願番号）：特開2000-036108
出願日： 1989年05月24日
公開日（公表日）： 2000年02月02日
要約：

【要約】【課題】記録能力に優れ、かつ再生効率にも優れた薄膜磁気ヘッドを得る。【解決手段】磁性材料をスパッタリングした後パターニングすることにより下部磁極を形成し、該下部磁極上に絶縁材料をスパッタリングした後パターニングすることによりギャップ膜を形成し、該ギャップ膜上に飽和磁束密度1.3T 以上の高飽和磁束密度磁性材料、 Ni-Fe(パーマロイ)合金を順次スパッタリングした後パターニングすることにより上部磁極を形成することにより薄膜磁気ヘッドを製造する。

請求項（抜粋）：

磁性材料をスパッタリングした後パターニングすることにより下部磁極を形成し、該下部磁極上に絶縁材料をスパッタリングした後パターニングすることによりギャップ膜を形成し、該ギャップ膜上に飽和磁束密度1.3T 以上の高飽和磁束密度磁性材料、 Ni-Fe(パーマロイ)合金を順次スパッタリングした後パターニングすることにより上部磁極を形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭60-035315
  
• 特開昭64-042012