特許
J-GLOBAL ID:200903042075393113
基板処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三好 祥二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-200268
公開番号(公開出願番号):特開2001-028388
出願日: 1999年07月14日
公開日(公表日): 2001年01月30日
要約:
【要約】【課題】カセットローダがカセット受渡し装置からカセットを直接受取ることにより、カセットの受渡し時間を短縮し、基板処理装置フロアスペースを小さくすると共に装置価格を低減する。【解決手段】外部から搬入されたカセットを載置するカセット載置部30と、基板処理装置内でカセットを搬送するカセットローダ37と、該カセットローダと前記カセット載置部との間でカセットを受渡しするカセット受渡し装置27を具備する基板処理装置21に於いて、前記カセット受渡し装置は、前記カセット載置部からカセットを鉛直下方に移動可能なベースを有し、更に前記カセット受渡し装置が前記カセットローダに対するカセット受渡し位置と前記カセットを鉛直下方に降ろした位置との間で水平方向に進退する進退フレームを有し、該進退フレームにカセットを吊下げ状態で支持するカセット支持部を設けた基板処理装置。
請求項(抜粋):
外部から搬入されたカセットを載置するカセット載置部と、基板処理装置内でカセットを搬送するカセットローダと、該カセットローダと前記カセット載置部との間でカセットを受渡しするカセット受渡し装置を具備する基板処理装置に於いて、前記カセット受渡し装置は、前記カセット載置部からカセットを鉛直下方に移動可能なベースを有し、更に前記カセット受渡し装置が前記カセットローダに対するカセット受渡し位置と前記カセットを鉛直下方に降ろした位置との間で水平方向に進退する進退フレームを有し、該進退フレームにカセットを吊下げ状態で支持するカセット支持部を設けたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L 21/68 A
, B65G 49/07 C
Fターム (16件):
5F031CA02
, 5F031DA09
, 5F031DA17
, 5F031FA03
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA14
, 5F031GA49
, 5F031GA51
, 5F031GA55
, 5F031LA07
, 5F031LA12
, 5F031LA15
, 5F031MA28
, 5F031NA10
, 5F031PA26
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