特許
J-GLOBAL ID：200903042115991701
露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-049796
公開番号（公開出願番号）：特開平11-249317
出願日： 1998年03月02日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：
【要約】【課題】 露光装置の小型化および軽量化。【解決手段】 パターンを有したマスク2と基板17とを所定の走査方向に同期移動して、マスク2のパターンを基板17に露光する露光装置において、ベース18と、ベース18上に移動可能に設けられ、マスク2を保持するマスク保持手段19と、ベース18上にマスク保持手段19とは独立して移動可能に設けられ、基板17を保持する基板保持手段20と、ベース18上に設けられ、パターンの像を基板17に投影する投影光学系15と、ベース18上に独立して設けられたマスク保持手段19と基板保持手段20とを走査方向に同期移動させる走査手段24,26とを備える。
請求項（抜粋）：
パターンを有したマスクと基板とを所定の走査方向に同期移動して、前記マスクのパターンを前記基板に露光する露光装置において、ベースと、該ベース上に移動可能に設けられ、前記マスクを保持するマスク保持手段と、前記ベース上に前記マスク保持手段とは独立して移動可能に設けられ、前記基板を保持する基板保持手段と、前記ベース上に設けられ、前記パターンの像を前記基板に投影する投影光学系と、前記ベース上に独立して設けられた前記マスク保持手段と前記基板保持手段とを前記走査方向に同期移動させる走査手段と、を備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
G03F 7/22
, H01L 21/027
, H05K 3/00
G03F 7/22 Z
, H05K 3/00 H
, H01L 21/30 514 E
