特許

J-GLOBAL ID：200903042119808260

含ケイ素化合物、その製造方法、およびその用途

発明者： 内丸 祐子 ,  田中 正人
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-266629
公開番号（公開出願番号）：特開平6-092972
出願日： 1992年09月09日
公開日（公表日）： 1994年04月05日
要約：

【要約】【目的】 新規な1,1,2,4-テトラキスシリル-1-ブテン-3-イン類、および含ケイ素ポリマ-、およびその製造方法、およびこれらの含ケイ素ポリマ-から成るプレセラミックス、耐熱性材料、及び導電性材料を提供する。【構成】 (イ)1,4-ビスシリル-1,3-ブタジイン類(I)と1,2-ビス(ジ低級アルキルシリル)ベンゼン(II)とを、(ロ)一般式(-A-C≡C-C≡C-)n (Aは2価の有機基又はシリレン基を、aは2以上の整数を示す。)で表されるポリマ-(III)と前記化合物(II)とを、(ハ)前記の一般式(III)で表わされるポリマ-と1,2,4,5-テトラキス(ジ低級アルキルシリル)ベンゼンとを、白金化合物の存在下に反応させ、(イ)の方法により新規な1,1,2,4-テトラキスシリル-1-ブテン-3-イン類を、(ロ)の方法により新規な含ケイ素ポリマ-を、(ハ)の方法により新規な含ケイ素ポリマ-を効率的に製造する。

請求項（抜粋）：

(a)一般式R1 R2 R3 Si-C≡C-C≡C-SiR1 R2 R3 (I)(式中R1 、R2 およびR3 はそれぞれ、アルキル基、アリ-ル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリ-ロキシ基またはハロゲン原子の中から選ばれる、互いに1,3-同一もしくは相異なる1価の基である。)で表わされる1,4-ビスシリル-1,3-ブタジイン類と(b)1,2-ビス(ジ低級アルキルシリル)ベンゼンとを、(c)白金化合物の存在下に、反応させることを特徴とする、一般式【化1】(式中R1 、R2 およびR3 はそれぞれは前記と同じ意味を持ち、R20は低級アルキル基を示す。)で表わされる1,1,2,4-テトラキスシリル-1-ブテン-3-イン類の製造方法。

IPC (4件)：

C07F 7/08 ,  C07F 7/18 ,  C08G 77/60 NUM ,  H01B 1/06