特許
J-GLOBAL ID:200903042119923093
防曇剤および防曇性被膜形成基材
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石田 政久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-320832
公開番号(公開出願番号):特開平7-150072
出願日: 1993年11月29日
公開日(公表日): 1995年06月13日
要約:
【要約】 (修正有)【構成】 加水分解性の有機ケイ素化合物、ケイ酸液、水溶性樹脂などの被膜形成用マトリックスおよびシクロデキストリンを主成分とするものであり、シクロデキストリンは、前記マトリックス100重量部当り、40〜1500重量部含有される防曇剤。【効果】 この防曇剤は、ガラス、プラスチックシート、フィルム等の表面に薄く均一に塗布することができ、塗布加工が容易であり、塗布して形成される被膜は、防曇性および透明性に優れている。
請求項(抜粋):
被膜形成用マトリックスおよびシクロデキストリンを主成分とする防曇剤。
IPC (7件):
C09D 5/00 PPG
, C03C 17/25
, C03C 17/30
, C03C 17/32
, C08J 7/04
, C09D105/16 PCS
, C09K 3/18
引用特許:
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