特許
J-GLOBAL ID：200903042120643371
イオン注入装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-342432
公開番号（公開出願番号）：特開平7-169433
出願日： 1993年12月14日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：
【要約】【目的】 イオン源からのイオンビームの出射角度が最小になるように、イオン源の引出し電極系部分のギャップ調整を自動的に行うことができるようにしたイオン注入装置を提供する。【構成】 分析電磁石22の入口部に設けられていて開口部32の外側に広がったイオンビーム14を受けるマスク30と、このマスク30に流れるビーム電流I2 を計測するビーム電流計測器34と、このビーム電流計測器34で計測するビーム電流I2 が最小になるように、電極駆動装置16を制御してイオン源2の引出し電極系8部分のギャップdの調整を行う制御回路36とを設けた。マスク30の開口部32は、イオンビーム14がそれより大きく広がってもターゲット24に入射しない寸法をしている。
請求項（抜粋）：
プラズマを発生させるプラズマソース部およびこのプラズマソース部からイオンビームを引き出す引出し電極系を有するイオン源と、このイオン源の引出し電極系を機械的に駆動して当該引出し電極系と前記プラズマソース部との間のギャップを調整する電極駆動装置と、前記イオン源から引き出したイオンビームを質量分析する分析電磁石とを備え、この分析電磁石から出射したイオンビームをターゲットに照射してイオン注入を行うよう構成されたイオン注入装置において、前記分析電磁石の入口部に設けられていて、イオンビームがそれより大きく広がってもターゲットに入射しない寸法をしていてイオンビームを通過させる開口部を有し、この開口部の外側に広がったイオンビームを受けるビーム受け手段と、このビーム受け手段に流れるビーム電流を計測するビーム電流計測器と、このビーム電流計測器で計測するビーム電流が最小になるように、前記電極駆動装置を制御して前記ギャップの調整を行う制御回路とを設けたことを特徴とするイオン注入装置。
IPC (4件)：
H01J 37/317
, C23C 14/48
, H01J 37/04
, H01L 21/265
