特許

J-GLOBAL ID：200903042147700539

プラズマ処理方法及び装置

発明者： 角屋 誠浩 ,  渡辺 成一 ,  古瀬 宗雄 ,  田村 仁
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-349308
公開番号（公開出願番号）：特開平10-189547
出願日： 1996年12月27日
公開日（公表日）： 1998年07月21日
要約：

【要約】【課題】プラズマ生成用のガスの解離・励起効率を高めてプラズマ処理の高速化を図る。【解決手段】真空排気装置が接続され内部を減圧可能な処理室と、処理室内へガスを供給するガス供給手段と、処理室内部にガスのプラズマを発生させるプラズマ発生手段とを備え、ガス供給手段からの処理室へのガス導入部のガス吹き出し口の方向を処理室中心方向に対して傾けて処理室内に設ける。

請求項（抜粋）：

減圧排気される処理室内に渦状の処理ガスの流れを形成し、該処理ガスをプラズマ化し該プラズマを用いて試料を処理することを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

H01L 21/302 H ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 A