特許
J-GLOBAL ID：200903042150968828
回転式基板処理装置および処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-304943
公開番号（公開出願番号）：特開平10-137664
出願日： 1996年11月15日
公開日（公表日）： 1998年05月26日
要約：
【要約】【課題】 基板の処理過程でスループットを低下させることなく基板保持手段を十分に洗浄することができる回転式基板処理装置および処理方法を提供することである。【解決手段】 回転保持部1の回転部材2はモータ3のシャフト4の先端に水平に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転駆動される。モータ3のシャフト4は中空体により構成され、その内部に裏面洗浄用のバックリンスノズル7が挿入されている。バックリンスノズル7は回転部材2を貫通して基板100の裏面側に突出している。バックリンスノズル7の上端には第1の吐出口71が設けられ、上端近傍の周壁部には第2の吐出口72が設けられている。基板100の裏面洗浄処理時に、バックリンスノズルの第1の吐出口71から吐出されるバックリンス液により基板100の裏面が洗浄され、第2の吐出口72から吐出されるバックリンス液により回転保持部1が洗浄される。
請求項（抜粋）：
基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、前記基板保持手段を鉛直方向の軸の周りで回転駆動する駆動手段と、前記基板保持手段に保持される基板の裏面側の中心部に配置され、上方に洗浄液を吐出する第1の吐出口および側方に洗浄液を吐出する第2の吐出口を有する洗浄液吐出ノズルとを備えたことを特徴とする回転式基板処理装置。
IPC (4件)：
B05C 11/08
, B08B 3/02
, G03F 7/16 502
, H01L 21/304 341
B05C 11/08
, B08B 3/02 D
, G03F 7/16 502
, H01L 21/304 341 N
