特許

J-GLOBAL ID：200903042151565018

画像処理装置の校正方法

発明者： 長谷川 洋
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-010788
公開番号（公開出願番号）：特開2002-216109
出願日： 2001年01月18日
公開日（公表日）： 2002年08月02日
要約：

【要約】【課題】 画像処理装置を用いて多結晶体に発生する気孔の測定を行う際に、画像処理装置の校正を適切に行う。【解決手段】 被検査物である多結晶体の表面を撮像手段により撮像し、この撮像された被検査物の画像から、画像処理装置により気孔と認識される部分とそれ以外の部分とに階調が分けられた二値化された画像を作成し、この二値化された画像から、多結晶体に発生する気孔の測定を行う際に用いられる画像処理装置の校正方法であって、多結晶体の標準サンプルを作製し、当該標準サンプルの所定の範囲における気孔の数を予め測定しておき、画像処理装置を用いる際に、標準サンプルの予め測定された気孔の数と比較しながら、標準サンプルの二値化された画像における気孔の数が所定の数となるように、二値化の境界となる階調を調整する。

請求項（抜粋）：

被検査物である多結晶体の表面を撮像手段により撮像し、この撮像された被検査物の画像から、画像処理装置により気孔と認識される部分とそれ以外の部分とに階調が分けられた二値化された画像を作成し、この二値化された画像から、多結晶体に発生する気孔の測定を行う際に用いられる画像処理装置の校正方法であって、上記多結晶体の標準サンプルを作製し、当該標準サンプルの所定の範囲における気孔の数を予め測定しておき、上記画像処理装置を用いる際に、上記標準サンプルの予め測定された気孔の数と比較しながら、上記標準サンプルの二値化された画像における気孔の数が所定の数となるように、二値化の境界となる階調を調整することを特徴とする画像処理装置の校正方法。

IPC (3件)：

G06T 1/00 300 ,  G01B 11/08 ,  G06T 5/00 200

FI (3件)：

G06T 1/00 300 ,  G01B 11/08 H ,  G06T 5/00 200 Z

Fターム (29件)：

2F065AA26 ,  2F065BB18 ,  2F065DD12 ,  2F065EE00 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF61 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065PP24 ,  2F065QQ08 ,  2F065QQ25 ,  2F065SS13 ,  2F065UU04 ,  2F065UU05 ,  5B057AA01 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB06 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CE12 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB08 ,  5B057DC16