特許
J-GLOBAL ID:200903042155297794

液晶表示素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 須山 佐一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-159185
公開番号(公開出願番号):特開平6-059227
出願日: 1991年06月28日
公開日(公表日): 1994年03月04日
要約:
【要約】【目的】液晶表示素子の品質向上および生産性向上を行うと共に、製造工程の簡略化を図る。【構成】一対の電極基板1、2の主面にラビング処理を施した後、どちらか一方の主面にスペーサ3を散布し、減圧下の真空チャンバー10内で液晶充填領域を囲むようにシール剤4を介在させて一対の電極基板1、2を対向密接させて、液晶充填領域をほぼ真空状態のまま密閉する。常圧でシール剤4硬化後、減圧下でセル11を切断し、シール剤4の一部を除去し、この一部にできた液晶材料注入口9に液晶材料を浸し、減圧下より真空チャンバー10内をリークさせたときのセル11の内部と外部との気圧差によりセル11に液晶材料を充填する。
請求項(抜粋):
一対の電極基板の主面にラビング処理を施した後、前記一対の電極基板のいずれか一方の主面にスペーサを散布し、かつ液晶充填領域を囲むようにシール剤を介在させると共に、減圧下で前記一対の電極基板の主面どうしを対向密接させて前記液晶充填領域を密閉する工程と、前記対向密接した電極基板を囲む雰囲気を常圧に戻し、大気圧により前記スペーサで規制される間隔となるまで前記電極基板を圧縮すると共に、前記電極基板を加熱して前記シール剤により両電極基板を一体に固定する工程と、前記固定した電極基板を液晶材料を収容した減圧槽に入れ、減圧下で前記シール剤の一部を除去すると共に、この除去部を前記液晶材料に浸透する工程と、前記減圧槽内を常圧に戻し、大気圧により前記一対の電極基板内に前記液晶材料を充填する工程と、前記シール剤の除去部を封着する工程とを有することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
IPC (3件):
G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1339 505 ,  G02F 1/1341

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