特許
J-GLOBAL ID：200903042176693215
向上透明導電性被膜及びそれらを作製する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 永坂 友康
, 小林 良博
, 蛯谷 厚志
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-515964
公開番号（公開出願番号）：特表2008-546165
出願日： 2006年06月09日
公開日（公表日）： 2008年12月18日
要約：
向上された電気的、光学的及び他の性質を有する導電性パターンを形成するナノ金属含有エマルジョンでもっての被覆によって製造された透明導電性被覆物品(フィルム、三次元物体、等)。
請求項（抜粋）：
基材上に透明導電性被膜を形成させる方法であって、
a. 溶媒中の金属ナノ粉末をバインダー、界面活性剤、添加剤、ポリマー、緩衝剤、分散剤及び/又はカップリング剤から成る群の少なくとも一つの成分と混合して均質化混合物を形成させ、
b. この均質化混合物を水又は水混和性溶媒若しくは溶媒の混合物と混合してエマルジョンを形成させ、
c. 被覆されるべき基材の表面にこのエマルジョンを施用し、
d. この塗布されたエマルジョンから溶媒を蒸発させ、
e. この被覆層を焼結して導電性パターンを基材上に形成させ、そして
f. この導電性パターンを銅又はニッケルを含有する電解質組成物でもって電気メッキする
ことを含む方法。
IPC (3件)：
H01B 13/00
, H01B 5/14
, B32B 15/04
H01B13/00 503B
, H01B5/14 A
, B32B15/04 Z
4F100AB01B
, 4F100AB16C
, 4F100AB17C
, 4F100AG00
, 4F100AK01
, 4F100AK01B
, 4F100AT00A
, 4F100EH46B
, 4F100EH461
, 4F100EH71C
, 4F100EH712
, 4F100EJ46B
, 4F100EJ461
, 4F100GB41
, 4F100JG01C
, 4F100JG04
, 4F100JN01B
, 5G307FA01
, 5G307FA02
, 5G307FB02
, 5G307FC09
, 5G307FC10
, 5G323BA01
, 5G323BB02
, 5G323BB06
, 5G323BC01
