特許

J-GLOBAL ID：200903042176963859

薄片吸着装置および薄片吸着装置の洗浄方法

発明者： 鈴木 則夫
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高橋 光男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-086114
公開番号（公開出願番号）：特開平5-253853
出願日： 1992年03月10日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：

【要約】【目的】 洗浄のための格別の部材又は装置などを用いずに、簡単な構造で迅速且つ確実に吸着面を洗浄することができる薄片吸着装置および洗浄方法を提供する。【構成】 薄片吸着装置は、平板の中心部に配置された真空吸引用の吸引穴と、平板の上面に配置され、吸引穴と接続された吸引用の溝とを有する。溝は、吸引穴から外方に延びる渦巻形態をなす。吸引穴から洗浄液を流出させながら平板を回転させ、溝の渦巻中心部から溝の渦巻外端部に向かって洗浄液を送り、溝の内部を洗浄するとともに、溝から溢れた洗浄液によって平板の表面を洗浄する。

請求項（抜粋）：

直交軸の回りに回転自在な平板を備え、真空吸引用の吸引穴がほぼ前記直交軸に沿って前記平板を貫通し、かつ前記吸引穴と連通する吸引用の溝が前記平板の上面に設けられた、薄片吸着装置において、前記溝を一方の端部で前記吸引孔に接続し、前記平板の外周縁近傍で終端する渦巻き状に形成したことを特徴とする薄片吸着装置。

IPC (6件)：

B25B 11/00 ,  B25J 15/06 ,  B28D 7/04 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/304 341 ,  B65H 3/08 350