特許
J-GLOBAL ID：200903042178235664
洗浄剤組成物
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-224695
公開番号（公開出願番号）：特開2001-049293
出願日： 1999年08月06日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：
【要約】【課題】 汚れに対する溶解性、浸透性及び剥離性に優れ、電子部品、光学部品、金属部品、プラスチック製品、繊維製品、皮膚等に付着する汚れを効果的に除去する洗浄剤組成物を得る。【解決手段】 洗浄剤組成物が、下記一般式(1)【化1】(式中、Rは、下記式(2)又は式(3)で表される基である)で表される1,3-ジオキソラン-2-オン誘導体を含有する。【化2】(前記式(2)又は式(3)において、R1 は炭素数1〜22の範囲内の飽和もしくは不飽和の直鎖、分岐鎖、又は環式の炭化水素基であり、R2 は炭素数2〜4のアルキレン基で互いに同じでも異なっていてもよく、nはアルキレンオキシド基の平均付加モル数で0〜30の整数を示す)
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)【化1】(式中、Rは、下記式(2)又は式(3)で表される基であり、【化2】前記式(2)又は式(3)において、R1 は炭素数1〜22の範囲内の飽和もしくは不飽和の直鎖、分岐鎖、又は環式の炭化水素基であり、R2 は炭素数2〜4のアルキレン基で互いに同じでも異なっていてもよく、nはアルキレンオキシド基の平均付加モル数を表し、0〜30の整数である)で表される1,3-ジオキソラン-2-オン誘導体を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
4H003AC08
, 4H003AC12
, 4H003DA01
, 4H003DA02
, 4H003DA05
, 4H003DA09
, 4H003DA12
, 4H003DA14
, 4H003DA15
, 4H003DA16
, 4H003DB01
, 4H003DB02
, 4H003EB02
, 4H003EB04
, 4H003EB06
