特許

J-GLOBAL ID：200903042179622548

露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 久保 博義
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-033548
公開番号（公開出願番号）：特開平11-219896
出願日： 1998年02月02日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：

【要約】【課題】 装置の製造コストをそれほど増大させずに、生産性を向上させる。【解決手段】 順次基板をステージ上に供給し、位置合せし、露光し、そして回収する露光装置において、それぞれが前記供給、位置合せ、露光、および回収のために露光位置および他の処理位置に移動する前記ステージ3、4を2以上有し、露光位置に位置するステージ4上の基板に対して露光を行う間に他の処理位置に位置するステージ3上において露光以外の処理を行うことにより、露光以外の処理を露光と並列的に行う。

請求項（抜粋）：

順次基板をステージ上に供給し、位置合せし、露光し、そして回収する露光装置において、それぞれが前記供給、位置合せ、露光、および回収のために露光位置および他の処理位置に移動する前記ステージを2以上有し、露光位置に位置するステージ上の基板に対して露光を行う間に他の処理位置に位置するステージ上において露光以外の処理を行うことにより、露光以外の処理を露光と並列的に行うことを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

H01L 21/30 514 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 D ,  H01L 21/30 514 E ,  H01L 21/30 516 B