特許

J-GLOBAL ID：200903042187016037

露光装置

発明者： 井 田 良 一 ,  三 宮 勝 也
出願人/特許権者： 株式会社アドテックエンジニアリング
代理人 (1件)： 高橋 清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-053558
公開番号（公開出願番号）：特開2000-250227
出願日： 1999年03月02日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：

【要約】【課題】 高精度にプリント配線基板Wを分割して露光できる露光装置を提供する。【解決手段】 プリント配線基板Wを任意の領域に分割し、各領域毎にマスク1との位置合わせを行った上マスク1のパターンを焼き付ける。

請求項（抜粋）：

被露光基板を載置する基台装置と、該基台上の被露光基板に投影する所定のパターンを備え、前記被露光基板に接触又は近接可能に位置するマスクと、前記マスクと前記基台の少なくとも一方を移動させ、両者の相対的な位置関係を変更設定する移動装置と、前記マスクのパターンを基台装置上の被露光基板に投影させる光源装置と、前記露光基板を前記マスクに対応して任意の領域に区分し、前記移動装置を制御して該領域毎に前記マスクと被露光基板との位置合わせを行う位置合わせ装置と、前記領域毎に位置合わせを行った後に露光を行うように、前記移動装置と位置合わせ装置及び光源装置とを制御する制御装置と、を有することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

G03F 7/23 ,  G03F 9/00

FI (2件)：

G03F 7/23 Z ,  G03F 9/00 Z

Fターム (5件)：

2H097GA07 ,  2H097GA45 ,  2H097KA03 ,  2H097KA28 ,  2H097LA09

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 露光装置およびその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-182305   出願人：ソニー株式会社
• 特開昭56-073437
  
• 特開昭56-073437