特許

J-GLOBAL ID：200903042194260199

粒子光学機器のレンズ収差補正用補正装置

発明者： クレイン,マルセリヌス ペトルス カロルス ミガエル ,  ヘンストラ,アレクサンダー ,  ヴァン デン マスト,カールル ディーデリック
出願人/特許権者： コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ
代理人 (1件)： 伊東 忠彦 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-541912
公開番号（公開出願番号）：特表平11-509972
出願日： 1997年05月07日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：

【要約】粒子光学回転対称レンズは、球面収差及び色収差を示すことが避けられない。これらのレンズ収差は、従来の粒子光学機器の解像度の限界を決定する。それにも係わらず粒子光学機器の解像度を高めるため、“ウィーン・タイプ”補正器を用いて上記レンズ収差を軽減することが提案されている。かかる構造は、製造精度、機械的安定性(特に、熱度リフトに関して)、種々の素子の相対位置、並びに、電気的及び磁気的磁極を励起するための電流及び電圧の安定性に関して、非常に厳しい要件を充たす必要がある。従来の補正装置は、多数の別個の部品により構成されているので、製造精度、機械的安定性、及び、上記の部品の全部の同時的な整列に関する要件を充たすことは非常に難しい。本発明による補正器において、機械的精度及び安定性に関する上記要件は、六重極場を決定する磁極面が互いに隣接して設けられ、他の粒子光学素子がそれらの磁極面の間に配置されていないことによって簡単な方法で充たされ得る。

請求項（抜粋）：

機器内で照射されるべき対象物(14)を粒子ビームに晒すために装置の光軸(4)に沿って伝搬する荷電粒子のビームを生成する粒子ソースと、 荷電粒子のビームを集束させる集束レンズ(8)と、 上記集束レンズ(8)のレンズ収差を補正する補正装置(28)とからなり、 上記補正装置(28)は、均一電界と、この均一電界に直交して延在する均一磁界とを生成する磁極面を含み、両方の双極面は上記機器の光軸(4)に直交して延在し、 上記補正装置は、電気的及び磁気的四重極場、六重極場、並びに、電気的及び/又は磁気的八重極場を生成する磁極面を更に有し、上記磁極面(30-i)は上記機器の光軸(4)と実質的に平行して延在し、 上記補正装置は、上記六重極場の一部を形成し、かつ、相対的に上記光軸の周りに180°回転させられた少なくとも二つの付加的な六重磁場を生成するために配置されている粒子光学機器であって、 上記付加的な六重極場を決定する上記磁極面(30-i)は相互に隣接して配置され、他の粒子光学素子がそれらの磁極面の間に設けられていないことを特徴とする粒子光学機器。

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特許第840939号