特許

J-GLOBAL ID：200903042208155717

超薄層の製造方法

発明者： 國武 豊喜 ,  君塚 信夫 ,  藤川 茂紀
出願人/特許権者： 株式会社トクヤマ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-125523
公開番号（公開出願番号）：特開平11-319542
出願日： 1998年05月08日
公開日（公表日）： 1999年11月24日
要約：

【要約】【課題】超薄層を、多様な固体表面上に容易に形成しうる簡便な方法を開発すること。【解決手段】ハイドロゲルまたはオルガノゲルの表面を被処理固体表面に接触させた後剥離させ、必要によりこの操作を繰り返すことにより、該被処理固体表面に上記ゲルの表層部を転移させることを特徴とする被処理固体表面上への超薄層の製造方法。

請求項（抜粋）：

ハイドロゲルまたはオルガノゲルの表面を被処理固体表面に接触させた後剥離させることにより、該被処理固体表面に上記ゲルの表層部を転移させることを特徴とする被処理固体表面上への超薄層の製造方法。