特許

J-GLOBAL ID：200903042220692949

光学活性なニトロフェノキシメチルオキシラン類の製法

発明者： 高柳 佳弘 ,  横山 幸夫
出願人/特許権者： 第一製薬株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-115815
公開番号（公開出願番号）：特開2000-302772
出願日： 1999年04月23日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 抗菌薬の中間体の製造法を提供する。【解決手段】 水および式(I)で表わされる光学活性なサレン錯体の存在下で、(式中、Mは、Co、Co(O2CCH3)またはCo(O2CC6H5)を意味する。)ラセミ体化合物を処理することにより、光学活性な一般式(II-a)【化1】(式中、R1、R2、R3、R4およびR5は、各々独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ニトロ基またはアミノ基を意味する。)で表わされる化合物を製造する。

請求項（抜粋）：

水および光学活性な一般式(I)【化1】(式中、Mは、Co、Co(O2CCH3)またはCo(O2CC6H5)を意味する。)で表わされる化合物存在下、一般式(II)【化2】(式中、R1、R2、R3、R4およびR5は、各々独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ニトロ基またはアミノ基を意味する。)で表わされる化合物を処理することを特徴とする光学活性な一般式(II-a)【化3】(式中、R1、R2、R3、R4およびR5は、前記と同じ。)で表わされる化合物の製造方法

IPC (3件)：

C07D301/00 ,  C07D303/22 ,  C07M 7:00

FI (2件)：

C07D301/00 ,  C07D303/22

Fターム (3件)：

4C048AA01 ,  4C048BB08 ,  4C048CC01