特許
J-GLOBAL ID:200903042225587183

カセットステージ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石戸 元
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-010548
公開番号(公開出願番号):特開平7-221159
出願日: 1994年02月01日
公開日(公表日): 1995年08月18日
要約:
【要約】【目的】 カセット回転に要する領域を小さくし、カセットローダ等の他ユニットを同時に稼働し、ウェーハ搬送時間を短縮する。【構成】 カセット9を成膜処理する半導体製造装置との間でカセット9の受渡しを行うためのカセットステージ4を構成するカセット載せ台1,1の回転中心7をカセット9の中心になるようにする。
請求項(抜粋):
ウェーハを成膜処理する半導体製造装置との間でカセットの受渡しを行うためのカセットステージにおいて、該カセットステージの回転中心をカセットの中心になるようにすることを特徴とするカセットステージ。
IPC (5件):
H01L 21/68 ,  B65G 1/00 537 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/22 511 ,  H01L 21/31

前のページに戻る