特許

J-GLOBAL ID：200903042240683784

潜像とその製造方法および潜像表示方法並びに潜像付成形物

発明者： 武部 安男 ,  釘宮 公一 ,  美濃 規央 ,  中川 徹
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-119351
公開番号（公開出願番号）：特開平9-030117
出願日： 1996年05月14日
公開日（公表日）： 1997年02月04日
要約：

【要約】【課題】 時間経過による潜像の乱れがなく、半永久的に保存することができる新規な、かつ簡易に形成可能な潜像を得る。【解決手段】 ガラス11の上にインクによるパターンを形成し、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシランの1重量%ヘキサデカン溶液に室温で1時間浸し、インクの付着していないところに膜厚約2.3nmの薄膜12を形成する。薄膜は可視光の波長に比べて充分薄いため、可視光で識別できず、潜像となる。これを飽和水蒸気にさらし、水滴13を付着させる。これに検証線として可視光を透過させると、水滴の接触角が薄膜上とそれ以外の部分で大きく異なるため、それぞれの部分での散乱が異なり、透過光または散乱光を検出することで、潜像を顕在化させる。

請求項（抜粋）：

第1の物質からなる基体の表面上に、前記第1の物質と表面エネルギーが異なる第2の物質が部分的に形成されてなる潜像であって、かつ前記第1の物質と前記第2の物質とが0.1nm以上100nm以下の段差を有する潜像。

IPC (6件)：

B41M 5/00 ,  B32B 7/02 ,  B32B 9/00 ,  B42D 15/10 501 ,  C03C 17/30 ,  C04B 41/82

FI (6件)：

B41M 5/00 F ,  B32B 7/02 ,  B32B 9/00 A ,  B42D 15/10 501 A ,  C03C 17/30 A ,  C04B 41/82 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特表平3-619423