特許

J-GLOBAL ID：200903042253469722

露光装置

発明者： 久米 保 ,  西 和幸 ,  谷 博蔵 ,  長田 英喜
出願人/特許権者： ミノルタ株式会社
代理人 (1件)： 佐野 静夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-032260
公開番号（公開出願番号）：特開2000-232056
出願日： 1999年02月10日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、製作が容易な照度分布補正手段により露光領域における均一な照度分布を得ることが可能となる露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、光源と、前記光源からの光を所望の大きさに集光する集光光学系とにより所定のパターンが形成されたマスクを照明し、前記マスクのパターン像を感光基板上に形成する露光装置において、前記光源と前記マスクとの間に、均一な透過率分布を有する照度分布補正手段が設けられている構成とする。

請求項（抜粋）：

光源と、前記光源からの光を所望の大きさに集光する集光光学系とにより所定のパターンが形成されたマスクを照明し、前記マスクのパターン像を感光基板上に形成する露光装置において、前記光源と前記マスクとの間に、均一な透過率分布を有する照度分布補正手段が設けられていることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 502

FI (2件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 502

Fターム (8件)：

2H097BB10 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046BA03 ,  5F046CB08 ,  5F046CB13 ,  5F046CB23 ,  5F046DA01