特許
J-GLOBAL ID：200903042272301255
着色パターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-207501
公開番号（公開出願番号）：特開平5-027116
出願日： 1991年07月24日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：
【要約】【目的】 硬度、透明基板との付着力及び耐熱性に優れた着色パターンが得られる方法を提供する。【構成】 シリコンアルコキシドを含有するアルコキシドの加水分解溶液に着色顔料を分散したコート液を透明基板2に塗布し、乾燥して着色膜3を形成し、前記着色膜3の所望の部分に電子線5を照射し、現像して前記着色膜3の電子線が照射されていない部分6を除去して凹凸パターンを有する膜を形成することを特徴とする着色パターンの形成方法。
請求項（抜粋）：
シリコンアルコキシドを含有するアルコキシド溶液及びその加水分解溶液のうち少なくとも一種の溶液に、着色顔料を添加し、着色顔料が分散されたコート液を調製する工程と、前記コート液を透明基板上に塗布し、前記コート液を乾燥して着色膜を形成する工程と、前記着色膜の所望の部分に電子線を照射し、現像して前記着色膜の電子線が照射されていない部分を除去して、前記透明基板上に凹凸パターンを有する膜を形成する工程とを含むことを特徴とする着色パターンの形成方法。
IPC (4件)：
G02B 5/20 101
, C03B 8/02
, G03F 1/00
, G03F 7/26
