特許
J-GLOBAL ID:200903042278701719
往復直動装置とこれを用いた半導体製造装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井桁 貞一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-027069
公開番号(公開出願番号):特開平7-235579
出願日: 1994年02月25日
公開日(公表日): 1995年09月05日
要約:
【要約】【目的】 往復直動装置とこれを用いた半導体製造装置に関し、エアシリンダからの発塵を防止する。【構成】 エアシリンダ1と、エアシリンダ1のシリンダチューブ11内をピストン12が区画してなる二つの室11A, 11Bの一方を選択的に真空排気する管路3とで構成した往復直動装置とする。シリンダチューブ11の室11A を真空排気することによりピストンロッド13は前進し、室11B を真空排気することによりピストンロッド13は後退する。
請求項(抜粋):
シリンダチューブ(11)内でピストン(12)を移動させるエアシリンダ(1) と、該シリンダチューブ(11)内を該ピストン(12)が区画してなる二つの室(11A, 11B)の一方を選択的に真空排気する管路(3, 4)とを有し、該シリンダチューブ(11)の二つの室(11A, 11B)の一方を選択的に負圧にすることにより該ピストン(12)を移動させることを特徴とする往復直動装置。
IPC (3件):
H01L 21/68
, F15B 11/06
, F15B 21/04
前のページに戻る