特許
J-GLOBAL ID：200903042285473870
シリコン片の洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大家 邦久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-064551
公開番号（公開出願番号）：特開平7-242494
出願日： 1994年03月08日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：
【要約】【目的】 シリコン片の高純度洗浄方法の提供【構成】 シリコン片が収容された容器底部の中心部から洗浄液を導入し、容器の中心部では供給された洗浄液によってシリコン片が上昇すると共に容器内壁側ではシリコン片が自重によって沈降する緩やかな対流を容器内に形成して洗浄することを特徴とするシリコン片の洗浄方法。【効果】 多結晶シリコン棒の破砕に伴って生じる破砕屑のシリコン片などのように鋭利なシリコン片であっても、洗浄容器の材料による2次汚染を生じることがなく、半導体原料として使用できる純度に洗浄することができる。
請求項（抜粋）：
シリコン片が収容された容器底部の中心部から洗浄液を導入し、容器の中心部では供給された洗浄液によってシリコン片が上昇すると共に容器内壁側ではシリコン片が自重によって沈降する緩やかな対流を容器内に形成して洗浄することを特徴とするシリコン片の洗浄方法。
IPC (2件)：
C30B 29/06
, H01L 21/304 341
