特許
J-GLOBAL ID：200903042287634919
微粒子集積化基板およびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松本 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-026146
公開番号（公開出願番号）：特開2003-226984
出願日： 2002年02月01日
公開日（公表日）： 2003年08月15日
要約：
【要約】【課題】 基板表面上に微粒子が単粒子層として集積してなり、かつ、上記微粒子の集積状態に優れる、新規な微粒子集積化基板およびその製造方法を提供する。また、上記微粒子集積化基板を用いた導電性物質含有基板の製造方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る微粒子集積化基板は、基板表面上に微粒子の単粒子層を有し、前記単粒子層は前記微粒子が最密化してなる層であることを特徴とする。本発明に係る微粒子集積化基板の製造方法は、基板表面上に微粒子が最密化してなる単粒子層を有する微粒子集積化基板を得る方法であって、前記基板表面上に遠心力をかけた状態で前記微粒子を接触させる工程を含むことを特徴とする。本発明に係る導電性物質含有基板の製造方法は、上記本発明にかかる微粒子集積化基板における単粒子層の微粒子と微粒子との隙間に導電性物質を埋めた後、前記微粒子を除去することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
基板表面上に微粒子の単粒子層を有し、前記単粒子層は前記微粒子が最密化してなる層である、微粒子集積化基板。
Fターム (20件)：
4K044AA01
, 4K044AA06
, 4K044AA11
, 4K044AA12
, 4K044AA13
, 4K044AA16
, 4K044AB02
, 4K044BA08
, 4K044BA12
, 4K044BA14
, 4K044BA21
, 4K044BB08
, 4K044BB11
, 4K044BC14
, 4K044CA04
, 4K044CA13
, 4K044CA14
, 4K044CA15
, 4K044CA53
, 4K044CA55
