特許
J-GLOBAL ID：200903042294551573
感光性組成物、パターン形成方法、および電子部品の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-140216
公開番号（公開出願番号）：特開平10-073925
出願日： 1997年05月29日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：
【要約】【課題】 露光感度が高く、断面形状が良好な微細パターンを精度よく形成することができる感光性組成物を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)で表わされる繰り返し単位を有するポリシランと、有機過酸化物を有するベンゾフェノン系化合物とを含有する感光性組成物である。【化1】ここで、Arは置換または非置換のアリール基を示す。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表わされる繰り返し単位を有するポリシランと、有機過酸化物を有するベンゾフェノン系化合物とを含有する感光性組成物。【化1】(ここで、式中、Arは置換または非置換のアリール基を示す。)
IPC (4件)：
G03F 7/075 511
, C08L 83/05
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
G03F 7/075 511
, C08L 83/05
, G03F 7/004 503
, H01L 21/30 502 R
