特許
J-GLOBAL ID:200903042297821300

中空糸膜

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-018193
公開番号(公開出願番号):特開2001-205057
出願日: 2000年01月27日
公開日(公表日): 2001年07月31日
要約:
【要約】【課題】 疎水性高分子と親水性高分子からなる中空糸膜において、ドライ状態の膜から溶出する物質の量が非常に少なく、安全な中空糸膜を提供する。【解決手段】 疎水性高分子と親水性高分子からなり、ガンマ線照射によって滅菌を行う中空糸膜において、ガンマ線照射後の中空糸膜の水分率が10%以下であり、かつ中空糸膜を疎水性ポリマーと親水性ポリマーの共通溶媒に溶解したとき、膜の不溶化成分が10wt%以下であることを特徴とする中空糸膜。
請求項(抜粋):
疎水性高分子と親水性高分子からなり、ガンマ線照射によって滅菌を行う中空糸膜において、ガンマ線照射後の中空糸膜の水分率が10wt%以下であり、かつ中空糸膜を疎水性ポリマーと親水性ポリマーの共通溶媒に溶解したとき、膜の不溶化成分が10wt%以下であることを特徴とする中空糸膜。
IPC (4件):
B01D 69/08 ,  A61M 1/18 500 ,  B01D 67/00 500 ,  D06M 10/00
FI (4件):
B01D 69/08 ,  A61M 1/18 500 ,  B01D 67/00 500 ,  D06M 10/00 J
Fターム (36件):
4C077AA01 ,  4C077KK01 ,  4C077LL05 ,  4C077PP07 ,  4C077PP09 ,  4C077PP10 ,  4C077PP13 ,  4C077PP15 ,  4D006GA13 ,  4D006HA02 ,  4D006MA01 ,  4D006MA31 ,  4D006MA33 ,  4D006MA40 ,  4D006MC32 ,  4D006MC33 ,  4D006MC37 ,  4D006MC39 ,  4D006MC40X ,  4D006MC54 ,  4D006MC62 ,  4D006MC63X ,  4D006MC85 ,  4D006MC86 ,  4D006MC88 ,  4D006NA04 ,  4D006NA32 ,  4D006NA71 ,  4D006PA01 ,  4D006PB09 ,  4D006PB42 ,  4D006PC41 ,  4D006PC47 ,  4L031AB06 ,  4L031CB08 ,  4L031DA00
引用特許:
審査官引用 (17件)
全件表示

前のページに戻る